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HPW@UiO-66(Ce)复合材料的制备及可见光催化降解四环素
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作者 王寒蕊 李春光 +3 位作者 杜晨阳 王强 王聪 柳雨晴 《精细化工》 北大核心 2025年第2期411-419,448,共10页
利用水热合成法将磷钨酸(HPW)负载在铈基金属有机骨架材料〔UiO-66(Ce)〕上,制备了HPW@UiO-66(Ce)复合材料。采用SEM、XRD、FTIR、BET、UV-Vis DRS、XPS对HPW@UiO-66(Ce)进行了表征。考察了HPW@UiO-66(Ce)可见光催化降解四环素(TC)的性... 利用水热合成法将磷钨酸(HPW)负载在铈基金属有机骨架材料〔UiO-66(Ce)〕上,制备了HPW@UiO-66(Ce)复合材料。采用SEM、XRD、FTIR、BET、UV-Vis DRS、XPS对HPW@UiO-66(Ce)进行了表征。考察了HPW@UiO-66(Ce)可见光催化降解四环素(TC)的性能,探讨了其光催化降解机理。结果表明,HPW@UiO-66(Ce)拓宽了UiO-66(Ce)可见光吸收范围,从470 nm增至500 nm;HPW的负载降低了UiO-66(Ce)的比表面积,但对其孔径没有影响。由m(H_(3)PO_(4)•12WO_(3)•xH_(2)O)∶m〔UiO-66(Ce)〕=7∶5〔UiO-66(Ce)0.5 g〕制备的HPW@UiO-66(Ce)-0.7具有最佳的光催化降解TC性能,在可见光照90 min、投加量〔HPW@UiO-66(Ce)-0.7质量与TC溶液体积之比,下同〕为0.50 g/L时,对质量浓度60 mg/L、pH=7的TC降解率可达到96.4%。羟基自由基、空穴是HPW@UiO-66(Ce)-0.7光催化降解TC过程中主要活性物种,超氧自由基也参与此过程。 展开更多
关键词 磷钨酸 UiO-66(Ce) 四环素 光催化剂 降解 水处理技术
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