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关于新能源高新技术企业安全文化建设的思考——以青海黄河水电公司新能源分公司为例
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作者 彭岗 《商情》 2014年第4期112-113,共2页
新能源高新技术企业作为国家扶持的朝阳产业,经过多年的发展和壮大,形成了具有电力能源特点的新能源高新技术企业安全文化。本文以黄河水电公司新能源分公司为例,通过阐述安全文化建设在新能源高新技术企业发展中重要作用,进一步分... 新能源高新技术企业作为国家扶持的朝阳产业,经过多年的发展和壮大,形成了具有电力能源特点的新能源高新技术企业安全文化。本文以黄河水电公司新能源分公司为例,通过阐述安全文化建设在新能源高新技术企业发展中重要作用,进一步分析了新能源高新技术企业安全文化特点,从而提出多晶硅生产企业安全文化建设的对策。 展开更多
关键词 安全文化 思考
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电子级多晶硅制备过程中的质量影响因素研究 被引量:1
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作者 董丰琦 危胜 《产业创新研究》 2024年第14期96-98,共3页
电子级多晶硅是电子信息产业重要的基础材料,被广泛应用于集成电路、光伏电池、太阳能电池等领域。电子级多晶硅质量的高低直接影响到下游产品的性能和可靠性。因此,深入分析电子级多晶硅制备过程中的质量影响因素,对于提高产品质量和... 电子级多晶硅是电子信息产业重要的基础材料,被广泛应用于集成电路、光伏电池、太阳能电池等领域。电子级多晶硅质量的高低直接影响到下游产品的性能和可靠性。因此,深入分析电子级多晶硅制备过程中的质量影响因素,对于提高产品质量和加快我国电子信息产业发展具有重要意义。基于此,本文首先概述了电子级多晶硅的发展与现状,并重点分析了影响电子级多晶硅质量的关键因素,以期为电子级多晶硅生产过程的控制和改进提供参考。 展开更多
关键词 电子级多晶硅 制备过程 质量影响
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串级PID控制在蒸汽凝液回收系统中的应用
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作者 蒙小莉 郑灿杰 李学峰 《产业创新研究》 2024年第14期105-107,共3页
为了实现对精馏塔换热器等蒸汽及凝液的余热回收利用,借助凝液回收罐液位的高低对凝液回收泵的启停和液位联锁值实现自动控制。但是简单控制系统不能保证设备的安全工作,会造成设备的故障率增高。通过在现有凝液回收系统中凝液泵的出口... 为了实现对精馏塔换热器等蒸汽及凝液的余热回收利用,借助凝液回收罐液位的高低对凝液回收泵的启停和液位联锁值实现自动控制。但是简单控制系统不能保证设备的安全工作,会造成设备的故障率增高。通过在现有凝液回收系统中凝液泵的出口增压力变送器,凝液泵实现变频控制。通过集散控制系统(DCS)实现远程控制凝液泵启停,减少工艺生产中的人员浪费,引入串级控制方式和比例积分微分(PID)参数整定调节功能,实现对凝液泵的柔性控制,降低设备故障率,减少检修频次的目标。 展开更多
关键词 凝液回收系统 分散控制系统 串级控制 比例积分微分
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区熔法拉制硅芯的生产工艺及质量控制
4
作者 刘虎 魏强 杜斌功 《产业创新研究》 2024年第14期87-89,共3页
目前,多晶硅的主要生产工艺为改良西门子法,该工艺中硅芯作为硅沉积的载体,其品质对棒状硅的质量有着较大的影响。本文详细阐述了区熔法拉制的硅芯从拉制阶段直至装炉的全部工序,将其分为拉制阶段、机械加工阶段、清洗干燥阶段以及包装... 目前,多晶硅的主要生产工艺为改良西门子法,该工艺中硅芯作为硅沉积的载体,其品质对棒状硅的质量有着较大的影响。本文详细阐述了区熔法拉制的硅芯从拉制阶段直至装炉的全部工序,将其分为拉制阶段、机械加工阶段、清洗干燥阶段以及包装阶段四个阶段,并分阶段详细分析了各工序中影响硅芯质量的因素进行了探讨。 展开更多
关键词 圆硅芯 区熔 硅芯质量 工艺
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多晶硅废水处理过程中的关键因素分析
5
作者 郭海龙 张利华 +2 位作者 马玺坤 贺庭盛 张景琪 《大众标准化》 2024年第18期62-64,共3页
随着我国光伏产业的迅猛发展,多晶硅作为主要的基础材料,市场需求量不断增加,然而多晶硅废水在处理过程中仍存在的诸多难点亟待解决。结合多晶硅废水处理传统工艺,从来水水质分析、制约当前多晶硅废水处理的关键因素,以及多晶硅废水零... 随着我国光伏产业的迅猛发展,多晶硅作为主要的基础材料,市场需求量不断增加,然而多晶硅废水在处理过程中仍存在的诸多难点亟待解决。结合多晶硅废水处理传统工艺,从来水水质分析、制约当前多晶硅废水处理的关键因素,以及多晶硅废水零排放工艺的未来展望进行了简要的论述,力求能够为多晶硅废水处理行业提供部分参考意见,携手打破技术壁垒,早日实现多晶硅废水零排放、无害化的可持续发展路线。 展开更多
关键词 多晶硅 废水处理 硅渣 零排放
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鲁地拉水电站混凝土骨料料源选择研究 被引量:2
6
作者 文宁 运建勋 《西北水电》 2010年第1期38-41,共4页
鲁地拉水电站混凝土工程量大,骨料料源有灰岩料场、砂岩料场、正长岩料场以及开挖碴料,开挖碴料又分为砂岩、正长岩2种,骨料料源复杂。通过对不同类型的骨料料源进行综合技术经济比较,最终选择以砂岩开挖碴料加工碾压混凝土粗骨料、以... 鲁地拉水电站混凝土工程量大,骨料料源有灰岩料场、砂岩料场、正长岩料场以及开挖碴料,开挖碴料又分为砂岩、正长岩2种,骨料料源复杂。通过对不同类型的骨料料源进行综合技术经济比较,最终选择以砂岩开挖碴料加工碾压混凝土粗骨料、以料场开采的正长岩为主加工碾压混凝土细骨料及常态混凝土粗、细骨料的方案。 展开更多
关键词 碾压混凝土骨料 常态混凝土骨料 料源选择 试验成果 方案比选
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浅谈中小型水电站监控系统的应用 被引量:1
7
作者 李晖 《魅力中国》 2010年第1X期94-94,34,共2页
根据水电站固有的特点,应用诸如大中型电站的大型计算机管理系统存在资金、环境等因素的限制。本文论述了实用、有效和经济的计算机监测系统在小水电站中的应用。
关键词 水电站 监控系统 选择 功能
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浅谈如何加强水电自动化安全监测工作
8
作者 赵宏 《大观周刊》 2011年第2期111-111,共1页
随着科学技术的飞速发展,电力系统和发电厂的单机容量越来越大,水电厂运行工作逐步走向现场无人值班,少人值守,远方集中控制,迫切要求运行设备自动化进一步提高,监控系统进一步完善,运行人员的工作责任心、安全监测意识进一步提高。
关键词 设备自动化 安全监测 水电厂 监测工作 运行工作 科学技术 单机容量 电力系统
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电子级多晶硅清洗工艺探讨 被引量:1
9
作者 杜斌功 刘虎 《山西化工》 CAS 2023年第7期61-63,共3页
电子级多晶硅在还原炉中生长完成后,经收割、破碎、筛分、清洗、包装、入库等工序处理后才能提供给下游厂家。整个后处理流程的每一个环节都可能会引入杂质,这些杂质会对多晶硅表层造成污染。电子级多晶硅对硅块表面的杂质含量要求很高... 电子级多晶硅在还原炉中生长完成后,经收割、破碎、筛分、清洗、包装、入库等工序处理后才能提供给下游厂家。整个后处理流程的每一个环节都可能会引入杂质,这些杂质会对多晶硅表层造成污染。电子级多晶硅对硅块表面的杂质含量要求很高,清洗是控制电子级多晶硅产品表面杂质的有效手段。为了有效去除电子级多晶硅块表面金属、有机物等杂质,需利用高纯度的化学品对破碎后的硅块进行清洗,再用超纯水漂洗表面残留的污染物后进行干燥。因此,简要分析了后处理过程中表面杂质的引入过程、存在形式及去除方法[1]。 展开更多
关键词 多晶硅 表面金属 改良西门子法 清洗 酸洗
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还原炉钟罩镜面抛光对多晶硅生产节能的影响 被引量:2
10
作者 李文强 王秉琳 王琪 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2015年第24期1415-1419,1449,共5页
采取机械抛光与电化学抛光相结合的方法,对多晶硅生产用还原炉钟罩内壁进行修复处理,在保证还原炉内壁表面较好粗糙度的基础上,提高其抗腐蚀能力,以达到最好的抛光效果。抛光后大大提高了电子级多晶硅生产的节电率,缩短了生产周期,降低... 采取机械抛光与电化学抛光相结合的方法,对多晶硅生产用还原炉钟罩内壁进行修复处理,在保证还原炉内壁表面较好粗糙度的基础上,提高其抗腐蚀能力,以达到最好的抛光效果。抛光后大大提高了电子级多晶硅生产的节电率,缩短了生产周期,降低了运行成本,节能效果显著。 展开更多
关键词 还原炉 钟罩 镜面抛光 多晶硅 生产 节能
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电化学CO_2气体传感器的制备及评价 被引量:5
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作者 王晓波 雷远进 +1 位作者 申梅桂 张宏霞 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第10期1467-1471,共5页
采用空心氧化铝陶瓷管作衬底,制备了以NASICON材料为固体电解质,Li_2CO_3-BaCO_3二元碳酸共晶混合物为辅助电极的固体电解质管式CO_2传感器,对传感器电极材料进行分析表征并对传感器性能进行了测试。结果表明元件均对CO_2气体具有良好... 采用空心氧化铝陶瓷管作衬底,制备了以NASICON材料为固体电解质,Li_2CO_3-BaCO_3二元碳酸共晶混合物为辅助电极的固体电解质管式CO_2传感器,对传感器电极材料进行分析表征并对传感器性能进行了测试。结果表明元件均对CO_2气体具有良好的线性响应。当工作电压为6 V时,加热温度约为550℃左右时,元件表现出很好的灵敏度特性,其灵敏度值能与由能斯特方程得到的理论值较好符合。 展开更多
关键词 CO2传感器 固体电解质 NASICON材料 气敏特性
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电子级多晶硅生产技术探讨 被引量:6
12
作者 胥五一 危胜 《广州化工》 CAS 2014年第7期20-22,共3页
介绍了目前国内外电子级多晶硅生产技术的发展状况,重点说明了改良西门子法电子级多晶生产技术原理及其工艺流程,主要包括:氢气制备及纯化、氯化氢合成、低压氯化(三氯氢硅合成)、低温氢化(四氯化硅转化)、精馏、CVD还原、尾气回收和后... 介绍了目前国内外电子级多晶硅生产技术的发展状况,重点说明了改良西门子法电子级多晶生产技术原理及其工艺流程,主要包括:氢气制备及纯化、氯化氢合成、低压氯化(三氯氢硅合成)、低温氢化(四氯化硅转化)、精馏、CVD还原、尾气回收和后处理等工序。结合电子级多晶硅生产技术的成功工程应用实践,介绍了电子级多晶硅项目的技术特点。 展开更多
关键词 电子级多晶硅 半导体级多晶硅 生产技术 改良西门子法
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浅谈电子级多晶硅的清洗工艺 被引量:3
13
作者 安生虎 陈叮琳 《智能城市》 2019年第23期126-127,共2页
表金属杂质含量是电子级多晶硅一项重要的质量指标,目前电子级多晶硅在降低表面金属杂质含量的除杂技术上主要以酸清洗为主,通过不同程度的表面刻蚀将表金属杂质控制在较低水平。文章主要对电子级多晶硅料化学清洗工艺,尤其从电子级多... 表金属杂质含量是电子级多晶硅一项重要的质量指标,目前电子级多晶硅在降低表面金属杂质含量的除杂技术上主要以酸清洗为主,通过不同程度的表面刻蚀将表金属杂质控制在较低水平。文章主要对电子级多晶硅料化学清洗工艺,尤其从电子级多晶硅表金属控制中清洗液的选择方面进行相关的论述。 展开更多
关键词 电子级多晶硅 清洗 杂质
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软化水处理系统的设计策略 被引量:2
14
作者 陶秀琴 《化工管理》 2020年第22期63-64,共2页
轻烃回收过程中,对于冷却用水有着极大的需求。而在此过程中,冷却用水的质量将会直接影响到轻烃回收,同时也会对系统内部换热器、水泵、管线等设备造成直接影响。因此,只有确保软化水系统高效运行,才能提升冷却用水的品质。文章以天然... 轻烃回收过程中,对于冷却用水有着极大的需求。而在此过程中,冷却用水的质量将会直接影响到轻烃回收,同时也会对系统内部换热器、水泵、管线等设备造成直接影响。因此,只有确保软化水系统高效运行,才能提升冷却用水的品质。文章以天然气处理装置软化水系统作为研究对象,主要针对软化水处理系统的自动化控制设计以及优化策略展开研究。 展开更多
关键词 软化水 水处理系统 优化设计 自动化控制
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电气工程管理的事项及方法 被引量:8
15
作者 邸海荣 《魅力中国》 2009年第13期86-86,共1页
电气工程师应有对所负责的电气工程质量高度负责的责任心,充分应用自己的专业水平,深入、细致地搞好电气工程的技术、质量、签证、进度、安全等管理工作。
关键词 电气 工程 管理
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电子级多晶硅生产还原尾气中无定型硅去除工艺研究 被引量:2
16
作者 李有斌 俞朝 +1 位作者 陈叮琳 张才刚 《化工设计通讯》 CAS 2021年第1期38-39,共2页
对电子级多晶硅生产还原尾气中无定型硅产生原因进行分析,从还原炉工艺优化调整、尾气回收系统过滤除尘方面研究相对应无定型硅的去除工艺,可以有效降低无定型硅含量,进一步提高循环氢气质量,有助于提升电子级多晶硅产品质量。
关键词 电子级多晶硅 无定型硅 过滤器
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电子级多晶硅生产中硅芯杂质的来源 被引量:2
17
作者 张才刚 俞朝 +2 位作者 陈叮琳 李宏盼 李有斌 《化工管理》 2020年第31期73-74,共2页
硅芯在制造过程中和在还原炉初期沉积过程中不同程度受到杂质的污染,本论文针对硅棒生长过程中硅芯部位杂质来源,从石墨部件、惰性气体、硅芯制备工艺、洁净操作等各个环节的杂质污染情况着手试验研究,找到电子级多晶硅硅芯杂质的主要... 硅芯在制造过程中和在还原炉初期沉积过程中不同程度受到杂质的污染,本论文针对硅棒生长过程中硅芯部位杂质来源,从石墨部件、惰性气体、硅芯制备工艺、洁净操作等各个环节的杂质污染情况着手试验研究,找到电子级多晶硅硅芯杂质的主要来源。 展开更多
关键词 电子级多晶硅 硅芯 杂质
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现代环境生物技术的特点及应用 被引量:1
18
作者 郎春雷 《环境卫生工程》 2009年第S1期28-31,共4页
对诱变、原生质体融合及基因技术在环境工程中的研究进展进行了概述;说明了现代生物技术在环境工程上的应用主要集中在构建高效工程用菌去除难降解有毒物质方面;指出了生物修复技术具有较好的生态和经济效益,发展应用前景广阔。
关键词 生物技术 诱变 原生质体融合 基因工程 工程菌种
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氯硅烷提纯工艺中树脂除杂技术研究进展 被引量:1
19
作者 周国峰 许正清 《智能城市》 2019年第23期128-129,共2页
氯硅烷作为生产电子级多晶硅的重要原料,即使原料中含有微量的杂质,最终也会影响电子级多晶硅产品纯度,由于杂质和氯硅烷的沸点相近,通过传统工艺很难去除。基于此,文章就氯硅烷提纯工艺中新型树脂除杂技术的应用做了分析与探讨。
关键词 氯硅烷 树脂 提纯
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树脂除碳技术在超纯三氯氢硅提纯工艺中的应用 被引量:1
20
作者 许正清 王金宝 《化工管理》 2022年第3期67-69,共3页
三氯氢硅的合成过程中会引入碳杂质,在多晶硅和作为硅源的硅外延片生产中很容易发生沉积,形成晶格点缺陷,从而影响半导体材料的性能。高纯三氯氢硅中碳杂质主要以甲基二氯硅烷形式存在,而甲基二氯硅烷沸点与三氯氢硅接近,依靠单纯的精... 三氯氢硅的合成过程中会引入碳杂质,在多晶硅和作为硅源的硅外延片生产中很容易发生沉积,形成晶格点缺陷,从而影响半导体材料的性能。高纯三氯氢硅中碳杂质主要以甲基二氯硅烷形式存在,而甲基二氯硅烷沸点与三氯氢硅接近,依靠单纯的精馏法很难去除。文章重点介绍普通精馏法、吸附法、反应精馏法等几种三氯氢硅除碳方法,经过对比分析,精馏与树脂吸附相结合是目前比较有效的三氯氢硅除碳工艺。 展开更多
关键词 碳杂质 甲基二氯硅烷 树脂除碳 三氯氢硅
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